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製品の詳細
800 nm高分散超高速ミラー
780−830 nmにおける反射率>99.8%（P偏光）
5°AOIにおける群遅延分散は−1300 fsであった2
Ti：sapphire超高速レーザのパルス圧縮に適している
超高速チャープめっき
800 nmの高分散超高速ミラーは分散光干渉に基づく最適な多層めっき膜を有し、低群遅延分散（GDD）と高反射率の特徴。5°設計入射角（AOI）では、これらのミラーのGDDは−1300 fsである2P偏光の低反射率は99.8%である.これらの超高速ミラーの高分散設計エネルギー制御三次と高次の分散を実現し、より高いビーム安定性を提供します。800 nm高分散超高速ミラーはTi：sapphireレーザなどの超高速パルスのパルス圧縮と分散補償に適している。標準的な英国製サイズで、10-5表面品質とλ/10表面平坦度を有する溶融石英基板を使用している。
汎用仕様
設計波長DWL（nm）： |
800 |
入射角(°): |
5 |
波長範囲（nm）： |
780 - 830 |
DWL時の反射(%)： |
>99.9% (typical, p-polarization) |
厚さ（mm）： |
6.35 ±0.2 |
コーティングタイプ： |
Dielectric |
基底： |
Fused Silica |
コーティング仕様： |
Ravg>99.8%, GDD = -1300 fs2@ 780 - 830nm (p-polarization) Rabs>99.9% @ 800nm (typical, p-polarization) |
GDD Specification: |
-1300fs2@ 780 - 830nm
|
有効開口率（%）： |
80 |
背面: |
Commercial Polish |
コーティング： |
Ultrafast (780-830nm) |
表面品質： |
10-5 |
Wedge (arcmin): |
10 ±5 |
Irregularity (P-V) @632.8nm: |
λ/10 |
Minimum Reflectivity : |
>99.8% @780 - 830nm (p-polarization) |
製品情報
Dia. (mm) |
製品コード |
12.70 |
#12-330 |
25.40 |
#12-331 |
技術データ：
オンライン照会
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連絡先
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会社
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電話番号
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Eメール
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ウィーチャット
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認証コード
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